NSF EUV ERC RET in Engineering & Computer Science Site Program

NSF EUV ERC RET 工程

基本信息

  • 批准号:
    1301436
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 31.87万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    2014-02-01 至 2019-09-30
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This award provides funding for a three year standard award to support a Research Experiences for Teachers (RET) in Engineering and Computer Science Site program at the Colorado State University (CSU) entitled, "NSF Center for Extreme Ultraviolet Science and Technology (EUV ERC): Research Experience for Teachers in Engineering and Computer Science Site Program", under the direction of Dr. Jorge J. Rocca. The focus of this RET Site program, which will be located at CSU, the University of Colorado, Boulder (CU), and the University of California, Berkeley (UC Berkeley) is to immerse teachers in research and engineering applications of Extreme Ultraviolet light (EUV), science and technology that includes; laser development and design, ultra-high resolution microscopy, metrology, lithography for the manufacture fabrication of the next generation of computer chips, as well as element- and chemically-specific materials fabrication for new nano-scale devices. Through participation in scientific and engineering research, teachers will gain new knowledge and insights into how scientific and engineering core concepts are applied to the design and creation of engineered systems. This new content knowledge will enable them modify and build new classroom curriculum. Few places in the world offer this unique research focus area in the EUV sciences. The collaborative ERC research model offers a unique opportunity for teachers to truly experience the benefits of collaboration and networking for sustainability. In this multi-institution research Center approach teachers gain experience in collaborative learning, research, and experimentation involving more people, resources, and research techniques than they would if they were contained at a single research site.The EUV Center is one of the few academic and research centers that exist in the world that can support the training of a new generation of STEM teachers (pre-service and high school) proficient in EUV science core concepts. This RET Site program builds on the strength of the existing infrastructure of the Center to offer world-class opportunities for teachers to gain research experience that will prepare them to teach and translate new learned content into the classroom. The RET site will improve STEM teaching and learning for a total of 30 teachers (10 per year for 3 years). The experiences will be reinforced and sustained by continued development and reflection during the academic year, with connections to all three Center sites. Each teacher participant will impact over 125 students in the school year following the RET, which means that each year approximately 1125 students will experience hands-on learning of optics, lasers, and EUV science and technology.
该奖项为三年标准奖提供了资金,以支持科罗拉多州立大学(CSU)的工程和计算机科学网站教师(RET)的研究经验,题为“ NSF极端紫外线科学技术中心(EUV ERC):在Jorge J. Rocca博士的指导下,在工程和计算机科学领域的教师和计算机科学网站上的研究经验”。该RET网站计划的重点,该计划将位于CSU,科罗拉多大学,博尔德大学(CU)和加利福尼亚大学伯克利分校(UC Berkeley),是为了浸入极端紫外线光(EUV)的研究和工程应用中,包括;激光开发和设计,超高分辨率显微镜,计量,用于制造下一代计算机芯片的制造以及用于新纳米尺度设备的元素和化学特异性材料制造。通过参与科学和工程研究,教师将获得新的知识和见解,了解如何将科学和工程核心概念应用于工程系统的设计和创建。这些新的内容知识将使他们修改并建立新的课堂课程。世界上很少有地方在EUV科学中提供这个独特的研究重点领域。协作ERC研究模型为教师提供了一个独特的机会,可以真正体验协作和网络的可持续性好处。在这个多机构研究中心的方法中,教师在合作学习,研究和实验方面获得了更多的人,资源和研究技巧,而不是在一个单个研究站点中被遏制。该RET网站计划以现有中心基础设施的实力为基础,为教师提供了世界一流的机会,以获得研究经验,使他们能够为他们教授并将新的学习内容转化为课堂。 RET网站将改善总共30名教师的STEM教学(每年10名)。在学年的持续发展和反思中,与所有三个中心地点的联系将通过持续的发展和反思来加强和维持这些经验。每个教师参与者将在RET之后的学年影响125多名学生,这意味着每年大约有1125名学生将体验光学,激光和EUV科学技术的动手学习。

项目成果

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数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
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    {{ item.doi }}
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    {{ item.publish_year }}
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    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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